高純金靶材的生產工藝為:鑄錠（感應電溶解電子束熔煉法連續鑄造）→→成型（鍛造→熱軋或 冷軋→拉伸）→→熱處理（均質化，再燒結）→→精密機械加工（切削，銑，車，磨，刨）→→ 與背板結合（軟焊，擴散焊）→→檢測（超聲波，X光射線探

貴金屬：金、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥 高純金：金靶、金粒、金絲、金電極、金片、金粉 純度：3N 、3N5、4N、4N5、5N 規格：金靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶要求定做） 金粒（規 格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規格定做）金絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規格定做）金片（根據客戶要求定做）金粉（根據客戶要求定做）

貴金屬產品說明 隨著電子，半導體科學的發展，貴（gui）金屬以其優質的性能，應用越來越廣泛。中諾新材可 提供各種貴（gui）金屬的原材料及金、銀、鉑、鈀、釕，銠，銥的靶材和蒸發材料，價格與國 內市場價格同步。并可對金鉑等貴）金屬材料進行二次回收。可提供的貴金屬材料有：高純金， 高純銀，高純鉑，高純鈀，高純釕，高純銠，高純銥。 金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機加工制造而成。純度均可 達到99.99%，主要應用于電子半導體、太陽能光伏、平面顯示、磁學等行業。 釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機加工成靶，產品純 度可達99.95%。主要應用于電子半導體、磁學等行業

雜質含量 靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質 含量的要求也不同。例如，半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量 都有特殊要求。

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